郑州某半导体设备心片制作厂，晶圆激光加工的过程 中制造含硅、氟的非常规污废气 ，设计的概念净化办理范围1200吨/日。污废气 化学物质冗杂，具有刺激性微米级硅颗粒剂及氢氧化钠，普通净化办理方式方法不好及格。 化工废水含量及渠道 重点环境污染物质 ：溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟亚铁离子（200-300mg/L）、异丙醇 从何而来制作工艺 ：晶圆刻蚀焦化污水（45%）、CMP无机化学机械生产设备拋光焦化污水（40%）、生产设备冲洗器水（15%） 工作技术程序流程 革新适用"耐腐蚀沉淀出的+特种作业膜分开"水平线路： 钙盐积淀 ：污泥脱水氯化钙消除氟正离子（转化CaF2水解） 二沉池发应 ：包覆二沉池剂改变悬浊液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm直径膜挪作他用微细颗料 反渗软件系统 ：脱盐率>98%，的回收利用率75% 挥发凝结 ：浓水段进行氟化物零废气排放 决定成效 氟化物密度：<8mg/L（低过发达国家特级条件10mg/L） 硅分量：<5mg/L 水源量回收利用率：70%用到放凉塔补充水分 垃圾回收利用：汽化沉渣量较传统化技术下降60%