半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
的项目游戏 背景
该企业的专科生产方式半导体芯片用高纯氟化氢和六氟化钨,污废水 氟溶度特别高且组分很复杂。原本治疗技术成效不不稳,氟化物排污会时常超量。的项目进行投资2300万元制作特地治疗建筑设施,设计的治疗作用500吨/天。
废水处理工艺材料及原因
分娩废水重要来于分娩环保设备洁净和气体洗衣机清洗:
氟阴阳离子氨水浓度:1500-3500mg/L
含盐酸根阴离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含氢化物发生器钨、钼等金属材质风格
治理 工艺技术操作流程
对于高质量浓度优势特点,适用"采和+联级发展+膜外理"的工艺:
污水处理方法征集池:归类征集有差异 溶度污水处理方法
中合不良反应池:分时段添加氢脱色钠和氢脱色钙,控住决定性pH至7.5-8.
水解酸化池不起作用池:加药PAC和PAM提升凝固结果
斜管沉积池:高效率的固液剥离
多导电介质活性炭滤芯过滤器:我们要除不起眼科粒
反进行渗透操作系统:程度脱盐和除氟
生活污水处理萃取甩干等系统软件:离心分离甩干等后生活污水处理运输的专业妥善处理
在线播放监测器操作系统:时时监控摄像头氟阴离子渗透压和pH值
决定效用
补救体系启动数据源:
进水并且没有及时正确地处理氟亚铁离子月均渗透压:2800mg/L
出水量氟正离子密度:3.2mg/L(评均)
氟删去率:99.9%之内
水循环率:以达到65%
系统自动式化程度较高,变现工业废水除理成本低较低30%,年收集氟化钙副物品约400吨。